UV系列镜头
产品介绍
UV系列镜头 是专为UV (200-1000nm)波段设计的专业成像镜头系列， 广泛应用于紫外检测、荧光激发、材料分析等领域。
产品特点
- 多光谱覆盖：可见光、SWIR、UV
- 高分辨率设计，支持高像素传感器
- 优异的光学性能
- 工业级品质，稳定可靠
- 标准C接口，兼容性强
多光谱机器视觉镜头系列概览
覆盖可见光、短波红外、紫外全波段的专业成像解决方案
统一光学平台，多波段成像需求
图谱光电多光谱机器视觉镜头系列覆盖可见光（VIS）、短波红外（SWIR, 900–1700nm）、 紫外（UV, 200–400nm）多波段成像需求，为工业检测、科研分析、电子半导体及高端机器视觉系统提供统一光学平台。
镜头采用特殊玻璃与低色散光学设计，并经过宽谱段镀膜工艺，可在单一光学系统中覆盖多种波段， 保证图像一致性与低像差。适配C-Mount、F-Mount及定制接口，满足高分辨率工业相机与科研相机的多波段应用需求。
深度技术解析
专业光学设计，满足多波段高精度成像需求
全光谱适配能力
- 单支镜头即可覆盖可见光、SWIR（900–1700nm）及UV（200–400nm）光谱范围，减少系统切换成本
- 特殊色散控制光学玻璃，有效抑制跨波段像差与成像漂移，保证图像中心到边缘的一致性
专业光学工艺
- 宽带增透镀膜（BBAR）优化透过率，抑制反射，提高信噪比
- 光学元件采用低热膨胀玻璃及金属筒体设计，确保光轴稳定与长时间成像精度
高分辨率与多接口支持
- 覆盖2/3英寸至全画幅传感器，支持20MP+高分辨率相机，保证检测与测量精度
- 兼容C-Mount、F-Mount、M42等工业标准接口，支持定制适配器，方便系统集成
应用广泛
- 半导体与电子行业：晶圆检测、FPC缺陷检测、红外补偿对焦
- 科研与材料分析：多波段成像、光谱响应实验
- 工业质检与机器视觉：透明材料检测、表面瑕疵检测、UV照明下的高对比度成像
为什么选择图谱光电多光谱镜头？
多光谱一体化
一支镜头即可满足VIS/SWIR/UV全波段成像需求，降低设备数量与切换时间
低像差与高透过率
特殊玻璃与宽谱段镀膜，确保色彩一致与高对比度
高分辨率工业级设计
支持20MP+，适用于2D/3D检测与科研成像
接口灵活
C-Mount、F-Mount等多标准支持，可快速对接现有系统
产品详情
产品概述
UV系列镜头 系列镜头专为UV (200-1000nm) 波段应用设计， 采用先进的光学设计和镀膜技术，确保在特定波段内获得最佳成像效果。 该系列产品具有高分辨率、低畸变、高透过率等特点， 能够满足紫外检测、荧光激发、材料分析 等各种应用需求。
应用场景
紫外检测
荧光激发
材料分析
核心优势
- 多光谱覆盖：产品覆盖可见光、短波红外(SWIR)、紫外(UV)等多个光谱范围，满足不同波段成像需求
- 高分辨率设计：采用先进的光学设计，支持高像素传感器，提供清晰锐利的成像质量
- 低畸变率：精密的光学矫正技术，确保图像几何精度，适合精密测量应用
- 宽光圈设计：大光圈设计提供更多进光量，适合低照度环境应用
- 耐用可靠：工业级设计标准，金属外壳，能够在恶劣环境下稳定工作
UV系列镜头系列规格对比
| 产品型号 | 焦距 | 光圈 | 分辨率 | 畸变率 | 接口 | 手册 |
|---|---|---|---|---|---|---|
| TPL-2528UV | 25mm | F2.8-F32 | 100lp/mm | 0.40% | C | |
| TPL-5030UV | 50mm | F3-F32 | 100lp/mm | 0.10% | C | |
| TPL-7538UV | 75mm | F3.8-F32 | 100lp/mm | -0.10% | C | |
| TPL-8528UV | 85mm | F2.8-F32 | 65lp/mm | 0.70% | F | |
| TPL-NV7838UV | 78mm | F3.8-F32 | 100lp/mm | -0.05% | C | |
| TPL-7838UV | 78mm | 3.8 | 0.10% | F |
光学性能说明
MTF曲线
调制传递函数(MTF)是评价镜头成像质量的重要指标，表示镜头对不同空间频率的响应能力。 我们的镜头在设计空间频率范围内保持优异的MTF值，确保清晰锐利的成像效果。
色差矫正
采用特殊的光学玻璃材料和先进的镀膜技术，有效矫正色差， 特别是在宽光谱应用中，确保不同波长的光线聚焦在同一平面，减少色散造成的图像模糊。
畸变控制
通过精密的光学设计和加工工艺，将镜头畸变控制在极低水平， 大多数型号的畸变率低于1%，部分高端型号甚至达到0.1%以下，满足精密测量需求。
UV优化设计
使用石英玻璃等UV透过材料，配合专门的UV增透膜， 确保在200-400nm紫外波段具有良好的透过率，同时保持可见光波段的成像性能。
性能保证
所有镜头在出厂前都经过严格的光学性能测试，确保每一支镜头都符合标称规格。 我们提供详细的测试报告和质量保证书。
应用场景
多光谱镜头在各行业的实际应用
半导体晶圆检测
利用SWIR波段穿透硅材料的特性，实现晶圆内部缺陷检测，配合可见光进行表面检测， 一套系统完成多维度质量控制。
- 内部缺陷检测
- 表面瑕疵识别
- 对准标记识别
材料科学研究
多波段成像技术帮助科研人员观察材料在不同光谱下的响应特性， 为新材料开发和性能分析提供重要数据支持。
- 光谱响应分析
- 材料特性研究
- 缺陷表征
工业产品质检
UV波段增强表面缺陷对比度，SWIR波段检测内部结构， 可见光进行颜色和外观检测，全方位保证产品质量。
- 表面缺陷检测
- 内部结构分析
- 尺寸测量